年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99,996%)

三氟化氮（Nitrogén Trifluorid），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域.
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⚽显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓䍏清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热放出⼤应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为㰧化剂和掂佀进

A nitrogén-trifluorid, kémiai képlete NF3, erős oxidálószer. Fontos ipari speciális gázként széleskörű felhasználási területtel rendelkezik.
A mikroelektronikai iparban a nitrogén-trifluorid kiváló plazmamaró gáz; A félvezető chipekben, lapos kijelzőkben, optikai szálakban, fotovoltaikus cellákban és más gyártási területeken a nitrogén-trifluoridot főként plazmamaratási gázként és reakcióüreg-tisztítóként használják.
Nagy energiájú kémiai lézerekben is használható, hogy hidrogénnel reagálva egy pillanat alatt nagy mennyiségű hőt bocsát ki. A nitrogén-trifluoridot nagy energiájú üzemanyagként, valamint oxidálószerként és hajtóanyagként is használják rakétakilövéseknél.